[实用新型]一种CVD镀膜设备的真空室抽气装置有效
| 申请号： | 202021851698.5 | 申请日： | 2020-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN213037840U | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 因福明;沈杰 | 申请（专利权）人： | 昆山福钻新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/44 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董成 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州市昆*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种CVD镀膜设备的真空室抽气装置，涉及镀膜设备技术领域，具体为一种CVD镀膜设备的真空室抽气装置，包括镀膜机、真空机，所述镀膜机背面固定安装有集气室，且集气室的左右两侧固定安装有硬质分散管，所述集气室外部的一端螺纹套接有螺纹端盖，且螺纹端盖的背面固定安装有螺纹端盖。该CVD镀膜设备的真空室抽气装置，在真空机对镀膜机内部进行抽真空时，通过在镀膜机外部加装硬质分散管，使镀膜机可以多点进行排气，从而保证在对镀膜机进行抽真空时，镀膜机内部气流分布均匀，从而使镀室内蒸发的镀料或溅射靶溅出的原子、离子分散均匀，进一步提高了镀膜的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 cvd 镀膜 设备 真空 室抽气 装置 | ||
【主权项】：
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