[实用新型]一种合瓦、基于合瓦的屋面结构有效
申请号: | 202022011671.1 | 申请日: | 2020-09-15 |
公开(公告)号: | CN213682867U | 公开(公告)日: | 2021-07-13 |
发明(设计)人: | 田青山 | 申请(专利权)人: | 西安画风建筑工程有限公司 |
主分类号: | E04D1/02 | 分类号: | E04D1/02;E04D1/06 |
代理公司: | 西安毅联专利代理有限公司 61225 | 代理人: | 师玮 |
地址: | 710000 陕西省西安市高新区*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种合瓦、基于合瓦的屋面结构,属于建筑材料领域,能够避免现有瓦片屋面铺设费时和防水效果不好的缺陷。合瓦包括:一体成型的凸面板瓦和凹面底瓦;凸面板瓦沿其长度方向的截面为第一弧形,凹面底瓦沿其长度方向的截面为第二弧形;第一弧形的跨度大于第二弧形的跨度,第一弧形的拱起方向与第二弧形的拱起方向相反;第一弧形的两端向其弯曲方向延伸出第一斜线和第二斜线,第一斜线延伸至第二弧形的一端、并与第二弧形连接,第二斜线的斜率及长度均与第一斜线对称。本实用新型的屋面结构基于该合瓦。本实用新型的凸面板瓦和凹面底瓦一体成型,利用凹面底瓦的凹面作为排水面,排水面的间距可以在生产合瓦时调整尺寸。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 屋面 结构 | ||
【主权项】:
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