[实用新型]平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置有效
申请号: | 202022066274.4 | 申请日: | 2020-09-18 |
公开(公告)号: | CN213708477U | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 陈特超;曾武杨;唐电;杨彬;杨志权 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/50 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 戴玲 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种平板式PECVD设备的局部送气可调的辉光放电装置,包括上电极板、下电极板和送气机构,反应室由腔盖和腔体构成,上电极板安装在腔盖上,下电极板设于腔体的底板上,上电极板包括底盒和多个主管路,底盒的下端面为喷淋板,多个主管路呈矩阵式分布在底盒的上端面,送机机构包括多个送气组件,送气组件与主管路一一对应,送气组件包括送气支管以及设于送气支管上的流量计和控制阀,送气支管与对应的主管路连接。本实用新型将送气机构分成多组送气支路,通过流量计和控制阀调节局部区域的进气速率、气流大小,均衡上电极板的气体量,实现反应室的镀膜速率保持一致,能够大幅度提高镀膜的均匀性,进而大大提高了电池的转换效率。 | ||
搜索关键词: | 平板 pecvd 设备 局部 送气 可调 辉光 放电 装置 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的