[实用新型]一种用于基板单面刻蚀的传动辊及单面刻蚀设备

摘要

本实用新型公开了一种用于基板单面刻蚀的传动辊及单面刻蚀设备，该设备包括槽体，传动辊平行且等间距地设置在槽体上方，该辊体表面均匀设有吸附槽，所述吸附槽在辊体转动时吸附下方的刻蚀液并将所述刻蚀液作用于辊体上移动的基板底面完成单面刻蚀。本实用新型通过提出一种用于基板的传动辊及单面刻蚀设备，将传统刻蚀设备中溶液液面直接和硅片下表面接触的方式，改为通过有吸附槽的传动辊转动把溶液吸附在传动辊表面，硅片再与传动辊表面溶液反应刻蚀，从而去除硅片的单面磷硅玻璃或硼硅玻璃层，避免溶液翻液到硅片上表面，降低硅片产品的不良率。