[实用新型]压差平衡结构有效
| 申请号： | 202022118004.3 | 申请日： | 2020-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN213451912U | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 夏文强;杨保勋;彭国发 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | F16K17/22 | 分类号： | F16K17/22;F16K37/00;F16K51/02;G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 焦天雷 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种压差平衡结构，其用于连接光刻胶干式剥离机台的预真空腔和真空传送模块，包括：第一平衡孔形成在真空传送模块侧壁上；第二平衡孔形成在预真空腔侧壁上；平衡结构密闭连接第一平衡孔和第二平衡孔；流量控制装置形成在平衡结构上，其用于控制平衡结构内的气体流量。本实用新型的压差平衡结构使空传送模块和预真空腔缓慢的实现压差平衡，能避免预真空腔和真空传送模块由于压力差产生气流冲击，真空传送模块和预真空腔中的颗粒不会被扬起，进而提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 平衡 结构 | ||
【主权项】：
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