[实用新型]一种化学气相淀积反应室用气体注入环有效

专利信息
申请号: 202022119865.3 申请日: 2020-09-24
公开(公告)号: CN213357740U 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 曹峰峰;李得平 申请(专利权)人: 盛吉盛(宁波)半导体科技有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 315100 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种化学气相淀积反应室用气体注入环,包括气体注入环本体、进气旋钮和反应室本体,所述气体注入环本体的内环设置有调节结构,所述调节结构包括喷气管、翻转轴、锁紧螺母、翻转固定座、进气口和波纹管,所述气体注入环本体的内环均匀连通有喷气管,所述喷气管与气体注入环本体之间设置有翻转固定座,本实用新型通过在喷气管的顶端设置有翻转轴,喷气管与翻转轴固定,利用翻转轴可在翻转固定座上进行伸缩,伸缩完成后并利用两侧锁紧螺母进行锁紧,在翻转的同时,由于采用波纹管连接喷气管和气体注入环本体,因此可将喷气管随意翻转,不会造成气体测出的情况,继而改变喷气角度,提升喷气均匀性。
搜索关键词: 一种 化学 气相淀积 反应 气体 注入
【主权项】:
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