[实用新型]可控硅结构有效
申请号: | 202022145791.0 | 申请日: | 2020-09-25 |
公开(公告)号: | CN212725318U | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 刘宗贺;吴沛东 | 申请(专利权)人: | 深圳长晶微电子有限公司 |
主分类号: | H01L29/08 | 分类号: | H01L29/08;H01L29/06;H01L29/74 |
代理公司: | 深圳市宏德雨知识产权代理事务所(普通合伙) 44526 | 代理人: | 李捷 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型提供一种可控硅结构,其包括N型衬底、背面P型掺杂、P型穿通环、正面P型掺杂、隔离槽、N型掺杂区、表面结构和第三金属电极,背面P型掺杂设置在N型衬底一端,P型穿通环位于N型衬底四周,一端接触背面P型掺杂,正面P型掺杂设置在N型衬底远离背面P型掺杂一端,隔离槽呈环状,一端露出正面P型掺杂区,另一端穿过正面P型掺杂区,沉入N型衬底中,N型掺杂区设置在正面P型掺杂上,表面结构设置在正面P型掺杂远离N型衬底的一端,用于芯片钝化以及封装焊接,第三金属电极覆盖在背面P型掺杂上,用于封装可控硅阳极电极焊接导电。本实用新型的可控硅结构,提高了电压和电流的调节能力。 | ||
搜索关键词: | 可控硅 结构 | ||
【主权项】:
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