[实用新型]一种硅片清洗装置有效

专利信息
申请号: 202022171852.0 申请日: 2020-09-28
公开(公告)号: CN213529930U 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 刘晓杰 申请(专利权)人: 洛阳阿特斯光伏科技有限公司;阿特斯阳光电力集团股份有限公司
主分类号: B08B3/10 分类号: B08B3/10;B08B13/00;H01L21/67;H01L31/18;B01D46/10
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 471023 河南*** 国省代码: 河南;41
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摘要: 实用新型涉及硅片清洗技术领域,公开了一种硅片清洗装置。硅片清洗装置包括槽体和气管组件。待清洗的硅片置于槽体内的清洗液中,槽体的底部设置有出水口,出水口处设置有过滤网。气管组件包括气管和支架,支架固定在槽体底面,气管上开设多个通气孔,气管置于硅片的下方并固定在支架上;气管组件与过滤网沿竖直方向间隔设置,且过滤网位于气管组件在槽体底面上的投影外。本实用新型,降低了清理的难度,避免了碎片在槽体内部残留,保证后续的清洗效果。
搜索关键词: 一种 硅片 清洗 装置
【主权项】:
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