[实用新型]半导体设备气柜泄漏检测装置有效
申请号: | 202022199111.3 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN212963883U | 公开(公告)日: | 2021-04-13 |
发明(设计)人: | 杨保勋;江森林;彭国发 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G01M3/20 | 分类号: | G01M3/20 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 焦天雷 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种半导体设备气柜泄漏检测装置,包括:固定部设置在半导体设备气柜排气管内侧壁旁侧,其用于固定承载部;承载部用于承载检测颗粒,其位于半导体设备气柜上方;多颗检测颗粒,其为酸性检测指示剂,其遇酸性变色。本实用新型酸性指示剂变色能被安全人员及时发现,可以弥补侦测器报警下限范围之外的检测空白区域,避免由于氯气微泄漏造成的环境危害和设备损伤。 | ||
搜索关键词: | 半导体设备 泄漏 检测 装置 | ||
【主权项】:
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