[实用新型]一种半导体制备扩散炉有效

专利信息
申请号: 202022209260.3 申请日: 2020-09-30
公开(公告)号: CN213266791U 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 王家武;杨定永;张顺祥;阿凤雄;罗应强 申请(专利权)人: 云南全控机电有限公司
主分类号: C30B31/06 分类号: C30B31/06;C30B31/16;H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650000 云南省昆明市中国(云南)自由贸易试验区昆明片区*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 实用新型公开了半导体制备技术领域的一种半导体制备扩散炉,包括扩散炉主体,所述扩散炉主体左端设置有石英炉门,所述石英炉门内侧设置有保温桶,所述扩散炉主体内部固定设置有滑道,所述滑道上滑动装配有石英舟,所述石英舟的左边设置有挡板,所述挡板通过吊环挂设在扩散炉主体内壁顶端,所述石英舟上方设置有喷淋管,所述石英舟下方设置有排废管,所述排废管旁边设置有TC管,所述喷淋管和排废管均从扩散炉主体右端穿入,所述扩散炉主体右端中间固定设置有进气管,所述进气管内侧设置有匀流板。本实用性性通过以上设计优化,结构简单,密封效果好,喷淋管喷淋均匀,保温隔热效果好,提高了扩散均匀性,实用性强。
搜索关键词: 一种 半导体 制备 扩散
【主权项】:
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