[实用新型]双能量成像设备有效
| 申请号： | 202022217941.4 | 申请日： | 2020-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN213813966U | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 米科·马蒂卡拉 | 申请（专利权）人： | 芬兰探测技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G01T1/20 | 分类号： | G01T1/20 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 许春波;杨明钊 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请涉及双能量成像设备。目的是提供一种用于x射线和/或伽马射线检测的设备。根据实施例，设备包括：包括多个像素的检测器，其中多个像素包括被配置为检测第一能量范围内的入射的x射线辐射或伽马射线辐射的第一像素子集和被配置为检测第二能量范围内的入射的x射线辐射或伽马射线辐射的第二像素子集；处理单元，其被配置为：从多个像素中的每个像素获得信号；基于每个像素的信号获得多个像素中的每个像素的辐射强度值；计算第二像素子集中至少一个像素的在第一能量范围内的辐射强度估计。提供了一种设备。 | ||
| 搜索关键词： | 能量 成像 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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