[实用新型]一种用于CVD涂层设备的铝反应器有效
申请号: | 202022223966.5 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN212293739U | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 王彤 | 申请(专利权)人: | 常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/52;C23C16/448;C23C16/06 |
代理公司: | 上海思牛达专利代理事务所(特殊普通合伙) 31355 | 代理人: | 雍常明 |
地址: | 213100 江苏省常州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域,且公开了一种用于CVD涂层设备的铝反应器,包括筒体,所述筒体的外侧固定安装有铝反应器固定板,铝反应器的上盖因为需要频繁拆卸添加铝颗粒,采用锁紧卡箍的方式锁紧,既能保证密封性,又能快速拆卸和安装,上盖上安装有吊环和把手,便于搬运整个铝反应器和拆卸移动上盖,上盖法兰处安装有散热片,可以一定程度上降低上盖法兰O型圈沟槽处的温度,延长了上盖法兰O型圈的使用寿命,降低了成本,同时散热片还可起到挡住筒体加热圈的作用,不让筒体加热圈滑落,出气孔板采用螺丝固定的方式固定,方便拆卸进行清洗维护,进气孔板采用卡扣方式固定,位置不会偏移,同时方便拆卸。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 cvd 涂层 设备 反应器 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的