[实用新型]一种扩散炉净化台净化系统有效
| 申请号： | 202022319475.0 | 申请日： | 2020-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN213242498U | 公开（公告）日： | 2021-05-18 |
| 发明（设计）人： | 刘群;庞爱锁;林佳继;郭永胜;林依婷 | 申请（专利权）人： | 深圳市拉普拉斯能源技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙) 33283 | 代理人： | 董世博 |
| 地址： | 518118 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种扩散炉净化台净化系统，包括净化台框架和净化装置，所述净化装置包括空气过滤净化器、风机以及进风口构成；所述空气过滤净化器、风机以及进风口设置于净化台框架的上方；本实用新型通过设置空气过滤净化器对进入搬舟结构的气体进行净化，其一能够有效防止空气中过得灰尘等杂质对硅片的生产工艺产生影响，其二能够提高硅片的散热效率，且本实用新型通过将气流的导入口和到出口分别设置于空气过滤净化器的侧面以及风口的侧面，有效防止灰尘等杂质顺着导入口或导出口进入搬舟结构的内部。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 扩散 净化 净化系统 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
