[实用新型]用于直写光刻机的精密定位步进系统及直写光刻机有效
| 申请号： | 202022333628.7 | 申请日： | 2020-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN213843753U | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 李辉 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人： | 卢春燕 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于直写光刻机的精密定位步进系统及直写光刻机，所述精密定位步进系统包括：底座，所述底座包括两个立柱和横梁，两个所述立柱沿第一方向间隔设置，所述横梁连接在两个所述立柱的顶部，所述横梁上形成有沿所述第一方向延伸的第一长条形孔且所述第一长条形孔沿上下方向贯穿所述横梁；精密定位步进轴，所述精密定位步进轴设在所述横梁上，且所述精密定位步进轴包括滑座，所述滑座沿所述第一方向可移动；光路装置，所述光路装置穿设在所述滑座上，所述光路装置的在所述第一方向上的曝光中心轴线与所述第一长条形孔的在所述第一方向上的中心轴线上下对齐。根据本实用新型的用于直写光刻机的精密定位步进系统，应用于直写光刻机时，直写光刻机的曝光良率和曝光精度得到提高。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 精密 定位 步进 系统 | ||
【主权项】：
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