[实用新型]一种光刻机基底架的精密抛光装置有效
申请号: | 202022369790.4 | 申请日: | 2020-10-22 |
公开(公告)号: | CN213615973U | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | 胡志华;何平 | 申请(专利权)人: | 苏州航菱微精密组件有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B7/10;B24B55/06;B24B55/02;B24B47/12;B24B41/06 |
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地址: | 215000 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种光刻机基底架的精密抛光装置,包括箱体,箱体内固定安装有吸尘设备、电机和冷风机,箱体的顶部开设有圆孔、吸尘孔和冷风孔,圆孔内固定安装有轴承,轴承的一端固定连接有电机的传动轴,轴承的另一端固定安装有旋转轴,旋转轴的一端固定安装在有磨盘,箱体上固定连接有环形挡板,环形挡板内壁上固定连接有环形卡条,箱体上还固定连接有弹簧支撑柱,弹簧支撑柱的一端固定连接有盖板,盖板的两侧固定连接有挂钩,盖板的底部固定连接有橡胶压板;本申请,能够对圆架进行密封打磨,避免粉尘飞扬,避免了粉尘对操作人员造成身体伤害,避免了浪费水资源和避免了圆架与水接触氧化,增加了基底架的使用寿命。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 基底 精密 抛光 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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