[实用新型]一种提升反应气体扩散均匀性的扩散炉

摘要

本实用新型公开了一种提升反应气体扩散均匀性的扩散炉，包括外箱体、炉体；炉体包括炉筒、气体均布件；气体均布件的圆筒侧壁内设置有沿圆筒轴向方向延伸的环形均布腔；气体均布件的圆筒内侧壁上均匀设置有若干与环形均布腔相连通的气体均布孔；气体均布件的圆筒外侧壁上设置有与环形均布腔相连通的气体入口管；气体均布件同轴设置在炉筒内部；外箱体的一侧内侧壁上设置有能够将硅片通过炉口送至炉体内腔中的送料机构。本实用新型中环形均布腔的环形的设计以及其内侧均布的气体均布孔的设计，使反应气体由圆周的各个方向扩散至炉体内腔中，极大地提升了反应气体的扩散均匀性，从而保证硅片上生成薄膜厚度的一致性。