[实用新型]一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备有效
申请号: | 202022450902.9 | 申请日: | 2020-10-29 |
公开(公告)号: | CN213925013U | 公开(公告)日: | 2021-08-10 |
发明(设计)人: | 岩永贤吾;杨伟 | 申请(专利权)人: | 佛山高砂工业窑炉有限公司 |
主分类号: | C23C16/56 | 分类号: | C23C16/56;C23C16/26;H01M4/38;H01M4/583;F27B9/04;F27B9/06;F27B9/12;F27B9/24;F27D15/02;F27D17/00;F23G7/06 |
代理公司: | 广州市智远创达专利代理有限公司 44619 | 代理人: | 卓幼红 |
地址: | 528000 广东省佛山市禅城区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于生产硅氧负极材料基于CVD工艺的加工设备,涉及CVD工艺加工设备领域,针对现有的加工设备存在的稳定性差,气密性不好,存在安全隐患,产品合格率低,生产连续性无法保证,无法烧成硅氧负极材料电池材料的问题,现提出如下方案,其包括加热结构,所述加热结构包括加热室、燃气燃烧嘴、加热驱动马达、加热旋转框和辅热板,所述加热结构侧壁安装有自动供料机,所述加热结构远离自动供料机的一侧安装有过筛结构,所述过筛结构包括过筛板和导料管,所述过筛结构顶端安装有排气结构。本实用新型结构新颖,且密封性好,加热速度快,安全性高,维护更换速度快,避免空气污染,保护大气环境,原料二次回收利用,成本低。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 生产 负极 材料 基于 cvd 工艺 加工 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的