[实用新型]一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶有效
| 申请号： | 202022505954.1 | 申请日： | 2020-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN214300327U | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 赵岩;苗润财;苗润发;苗伟伟;王健 | 申请（专利权）人： | 上海繁枫真空科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海互顺专利代理事务所(普通合伙) 31332 | 代理人： | 成秋丽 |
| 地址： | 201507 上海市金山区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及磁控溅射镀膜设备技术领域，公开了一种圆柱旋转式矩形磁条磁控溅射靶，包括靶支架，所述靶支架的一侧上部设置连接有注水口，且靶支架的一侧下部固定连接有电机，所述靶支架的另一侧设置连接有靶腔，且靶支架的内部固定连接有靶旋转结构，所述靶腔的两侧固定连接有外齿轮，且靶腔的内部固定连接有靶材，所述注水口的一侧固定连接有进水管，所述进水管的一侧固定连接有冷却水管。本实用新型通过注水口、进水管、冷却水管、电机、转轴、第二齿轮、第一齿轮、靶旋转结构和靶腔，在电机的作用下，带动转轴的旋转，从而带动第二齿轮的旋转，使得第一齿轮受到第二齿轮旋转的力带动靶旋转结构的运转，便于工作人员的使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 圆柱 旋转 矩形 磁条 磁控溅射 | ||
【主权项】：
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