[实用新型]一种用于晶圆光刻的盖盘有效
申请号: | 202022599911.4 | 申请日: | 2020-11-11 |
公开(公告)号: | CN213987169U | 公开(公告)日: | 2021-08-17 |
发明(设计)人: | 姚力军;边逸军;潘杰;王学泽;陈春磊 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 王岩 |
地址: | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于晶圆光刻的盖盘,所述盖盘为凹型结构;所述凹型结构的底部设置有凹槽;所述凹槽中心处设置有通孔;所述凹型结构的中心线和所述凹槽的中心线相重合;所述凹型结构的侧面距离所述凹形结构的底面6‑7mm的位置设置有与底面相平行的长方形通孔。本实用新型提供的盖盘,通过对盖盘的结构进行重新设计,设置多层凹槽及在侧面的特定位置设置长方形通孔,使得在使用过程中装配牢固,避免了晶圆的晃动,使用寿命显著延长。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 圆光 | ||
【主权项】:
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