[实用新型]CVD处理系统

摘要

本实用新型提供一种CVD处理系统，所述系统包括：放片子系统、反应腔和取片子系统，所述放片子系统包括放片腔、放片传送腔和放片传输组件，所述放片传送腔位于所述放片腔和反应腔之间，所述放片传输组件位于所述放片传送腔内，所述放片传输组件用于将所述放片腔内的托盘及衬底输送至所述反应腔；所述取片子系统包括取片腔、取片传送腔和取片传输组件，所述取片传送腔位于所述反应腔与所述取片腔之间，所述取片传输组件位于所述取片传送腔内，所述取片传输组件用于将所述反应腔内的托盘及衬底输送至所述取片腔。该CVD处理系统避免了由于传输组件、取放片腔或传送腔微粒污染所造成的表面缺陷，提高了产品良品率。