[实用新型]可吹动粉末的原子层沉积装置有效
申请号: | 202022647429.3 | 申请日: | 2020-11-16 |
公开(公告)号: | CN214088661U | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 林俊成;张容华;古家诚 | 申请(专利权)人: | 鑫天虹(厦门)科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 361101 福建省厦门市厦门火*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种可吹动粉末的原子层沉积装置,主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元,其中驱动单元通过轴封装置带动真空腔体转动。轴封装置包括一外管体及一内管体,其中内管体设置在外管体的容置空间内。至少一抽气管线及至少一进气管线位于内管体内,其中进气管线由内管体延伸置反应空间内,并用以将一非反应气体输送至反应空间,以吹动反应空间内的粉末。 | ||
搜索关键词: | 吹动 粉末 原子 沉积 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的