[实用新型]一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备有效
| 申请号： | 202022652563.2 | 申请日： | 2020-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN213507174U | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企业（有限合伙） |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/52;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 秦广成 |
| 地址： | 242074 安徽省宣城市经济*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备，属于物理气相沉积设备技术领域，其中膜层沉积腔室，包括：壳体，壳体上设置有观察窗，观察窗提供用于观察壳体内的载板的窗口；遮挡板，可移动的设置在壳体的内部，遮挡板相对于观察窗具有遮挡位置和打开位置，遮挡板在遮挡位置用于遮挡观察窗对壳体内的观察；遮挡板在打开位置移开对观察窗的遮挡，以便于通过观察窗对壳体内进行观察。本实用新型的膜层沉积腔室，通过遮挡板使腔室在用于进行磁控溅射时，靶材材料、灰尘及其他杂质不容易落在观察窗上，当需要通过观察窗对腔室内部进行观察时，通过移动遮挡板，能够看到壳体内部的载板，从而改善了观察窗容易被污染的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沉积 磁控溅射 设备 | ||
【主权项】：
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