[实用新型]一种半导体设备CVD装置喷头高压水洗保护治具

摘要

本实用新型公开了一种半导体设备CVD装置喷头高压水洗保护治具，所述半导体设备CVD装置喷头呈盆状，盆状喷头包括中间的铝材圆柱，底部的铝材底和顶部的铝材边沿，所述铝材底上开设有多个出水孔；所述高压水洗保护治具呈直角三角形结构，包括底板，竖板和斜板；所述斜板上开设有第一圆孔，所述第一圆孔的直径大于铝材圆柱外径小于铝材边沿外径；所述底板上开设有用于排水的第二圆孔；所述斜板底面两侧与底板顶面之间设置有两块垂直于竖板的支撑板，所述支撑板与竖板之间留有间隙；斜面设计可以使操作人员冲洗动作更加方便，水反溅也降到最少，同时可以保证部件冲表面不遗漏；可以重复利用，提高了生产效率，保证了产品品质。