[实用新型]下电极底座装置及真空镀膜腔系统有效
| 申请号： | 202022807671.2 | 申请日： | 2020-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN214327880U | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 杨宝海;杨娜;潘家永;许伟伟;宋玉超;李轶军;李翔;李敦信;李义升 | 申请（专利权）人： | 营口金辰机械股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/50 | 分类号： | C23C16/50;C23C16/54;C23C16/458;C23C16/46 |
| 代理公司： | 沈阳亚泰专利商标代理有限公司 21107 | 代理人： | 周涛 |
| 地址： | 115000 辽宁省*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 下电极底座装置及真空镀膜腔系统属于太阳能电池设备技术领域，尤其涉及一种用于制造异质结太阳能电池的PECVD下电极底座装置及真空镀膜系统。本实用新型提供的一种高效率、高精准、低成本的用于异质结PECVD设备的下电极底座装置及真空镀膜腔系统。本实用新型包括的用于异质结PECVD设备的下电极底座装置，包括固定横梁，其特征在于：固定横梁上通过支脚设置有固定的下电极载片板，下电极载片板下方设置有下电极托盘组件，下电极托盘组件下方设置有升降系统。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 底座 装置 真空镀膜 系统 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
