[实用新型]一种半导体清洗装置

摘要

本实用新型公开了一种半导体清洗装置，包括壳体，于所述壳体的上端面形成有滤槽；容置件，所述壳体的两侧安装有竖直设置的支撑杆；清洗组件，所述清洗组件包括有喷洒头和喷水管，所述喷洒头的底部安装在壳体上，其喷洒端位于容置件的正上方，且该所述喷洒头的喷洒范围覆盖所述容置件，所述喷水管安装于壳体端面的四个拐角处，其喷洒端指向容置件的底部，四个所述喷水管的喷洒范围覆盖所述容置件的底部；其中，所述容置件由挡板分隔成具有多个独立的容置槽。本实用新型通过设置容置件实现对待清洗物件的分区域清理，同时容置件的容置槽通过通孔实现空间的相互连通，在实施清洗过程中增大了水流冲洗量，进一步的提升了冲洗效果。