[实用新型]一种用于真空镀膜样品的取样装置有效
申请号: | 202022833117.1 | 申请日: | 2020-11-30 |
公开(公告)号: | CN214010781U | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
发明(设计)人: | 闫超;吕绪明;罗立平 | 申请(专利权)人: | 核工业理化工程研究院 |
主分类号: | G01N1/04 | 分类号: | G01N1/04;C23C14/30 |
代理公司: | 天津创智睿诚知识产权代理有限公司 12251 | 代理人: | 李薇;田阳 |
地址: | 300000 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于真空镀膜样品的取样装置,所述取样装置包括取样装置底座和取样装置盖板,所述取样装置底座设有一个或多个取样片安装槽,所述取样片安装槽为上下开放的槽,所述取样片安装槽内设有凸台以承接样片,所述取样装置盖板可拆卸的装配于所述取样装置底座上以覆盖所有取样片安装槽。在转移安装过程中样片紧固,不会有样片跌落、遗失的风险。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 真空镀膜 样品 取样 装置 | ||
【主权项】:
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