[实用新型]一种激光刻蚀精密对位平台有效
| 申请号： | 202022834427.5 | 申请日： | 2020-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN215698884U | 公开（公告）日： | 2022-02-01 |
| 发明（设计）人： | 石利 | 申请（专利权）人： | 无锡旭电科技有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/362 | 分类号： | B23K26/362;B23K26/70 |
| 代理公司： | 无锡市朗高知识产权代理有限公司 32262 | 代理人： | 夏楠 |
| 地址： | 214000 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种激光刻蚀精密对位平台，包括平台，所述平台固定设置在Z轴移动台上，所述Z轴移动台上设有X轴直线电机，所述平台在Z轴移动台上沿着X轴方向移动，所述Z轴移动台的侧边固定在Y轴移动台上，所述Z轴移动台沿着Y轴移动台的竖直板沿着Z轴方向移动，所述Y轴移动台的竖直板上设有滚珠丝杠，所述滚珠丝杠通过从动轮连接Z轴伺服电机，所述Z轴移动台通过螺母沿着滚珠丝杠上下移动，所述Y轴移动台的水平板底部设有Y轴直线电机，所述Y轴移动台底部设有Y轴滑轨进行Y轴方向移动，平台XYZ方向导向,平台运行速度快,结构简单。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 刻蚀 精密 对位 平台 | ||
【主权项】：
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