[实用新型]一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉有效
| 申请号： | 202022846964.1 | 申请日： | 2020-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN214244675U | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 胡山 | 申请（专利权）人： | 四川恩科光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C30B35/00 | 分类号： | C30B35/00;F26B11/04;F26B23/00;F26B25/16 |
| 代理公司： | 成都明涛智创专利代理有限公司 51289 | 代理人： | 毕雅凤 |
| 地址： | 620300 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉，包括配重底板、对称设置在配重底板上端面两侧的两组承载板以及设置在配重底板上方的烧结炉主体，所述烧结炉主体内开设有烘干仓，所述烘干仓内延烧结炉主体的轴心方向活动设置有一组调节轴，所述调节轴的外缘面上对称构造有四组调节板，且调节轴的外缘面上设置有一组存放装置，所述存放装置包括呈圆柱状的存放箱，所述存放箱内开设有存放仓，且存放箱的两侧均开设有连通至存放仓内的圆槽，圆槽的槽壁上对称构造有四组抵接板，该提供受热均匀性的单晶体生产烧结炉，结构合理，便于使得单晶体进行均匀的受热烘干，且便于将装载单晶体的存放装置进行快速的安装，实用性强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 提供 受热 均匀 单晶体 生产 烧结炉 | ||
【主权项】：
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