[实用新型]一种用于PVD离子源靶材的水冷结构有效
| 申请号： | 202022853773.8 | 申请日： | 2020-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN214361646U | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 侯瑞;张鸿;周博文;张鹏蛟;李文亮;李俊周;孙安 | 申请（专利权）人： | 铍威镝新材料（南京）有限公司;江苏安德信超导加速器科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/54 |
| 代理公司： | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人： | 顾翰林 |
| 地址： | 210000 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于PVD离子源靶材的水冷结构，属于PVD技术领域，包括依次设置的铜靶座、涡旋盘、靶座绝缘垫和里盖，靶座绝缘垫为环形，里盖设有插孔，一根通水管的其中一端穿过里盖的插孔并与涡旋盘固定连接；铜靶座与涡旋盘之间设有第一水流通道，第一水流通道由涡旋通道和与涡旋通道连通的反流通道构成，涡旋盘与里盖之间设有第二水流通道，通水管内设进水孔和出水孔，涡旋盘设有第一连通孔和第二连通孔，进水孔通过第一连通孔与涡旋通道连通，反流通道通过第二连通孔与第二水流通道连通，通水管设有连通第二水流通道与出水孔的第三连通孔。本实用新型是一种冷却效果好、易加工、易安装且易拆卸的PVD离子源靶材的水冷结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 pvd 离子源 水冷 结构 | ||
【主权项】：
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