[实用新型]一种晶片的清洗装置有效
| 申请号： | 202022885479.5 | 申请日： | 2020-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN214078346U | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 段贤明;高林;黄振伟 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B08B11/00 | 分类号： | B08B11/00;B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 张李静;张颖玲 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种晶片的清洗装置，涉及半导体加工领域，该清洗装置包括：支架，驱动晶片的待清洁面在预设平面内转动；清洁刷，与晶片的待清洁面的部分区域接触，且晶片的待清洁面的旋转中心位于清洁刷与晶片的待清洁面接触的区域内；供液管路，位于晶片的待清洁面的外侧，且供液管路间隔设置有多个出液口，各出液口均朝向待清洁面，以向待清洁面喷洒清洗液；其中，待清洁面上的点距待清洁面的旋转中心越近，点被喷洒的清洗液的密度越高。这种晶片的清洗装置，能够使经过清洗后的晶片的表面有良好的一致性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶片 清洗 装置 | ||
【主权项】：
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