[实用新型]镀膜设备有效
申请号: | 202023021485.2 | 申请日: | 2020-12-15 |
公开(公告)号: | CN214830649U | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 周超;刘权辉;刘长明;张昕宇;于琨 | 申请(专利权)人: | 浙江晶科能源有限公司;晶科能源股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人: | 成丽杰 |
地址: | 314416 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型实施例提供一种镀膜设备,包括上层腔室和下层腔室,上层腔室与下层腔室相互独立;支撑架,支撑架用于承载上层腔室,以使上层腔室位于下层腔室上;进料平台和出料平台,上层腔室和下层腔室共用进料平台和出料平台;进料平台和出料平台位于上层腔室相对的两侧;下层腔室包括下层腔体和下层腔盖,下层腔盖用于密封下层腔体,下层腔盖包括相连接的第一腔盖和第二腔盖;第一腔盖包括相对的第一侧和第二侧,第二腔盖包括相对的第三侧和第四侧;镀膜设备还包括:第一驱动部,第一驱动部与下层腔盖连接,并驱动第一侧和第四侧相对于下层腔体升降,使得下层腔体打开或密闭。本实用新型实施例提供的镀膜设备能合理利用厂房空间并且能提高产能。 | ||
搜索关键词: | 镀膜 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的