[实用新型]一种半导体用具有气场均匀的高温气相沉积炉

摘要

本实用新型涉及气相沉积炉技术领域，且公开了一种半导体用具有气场均匀的高温气相沉积炉，包括气相沉积炉壳，所述气相沉积炉壳的底部焊接安装有气相沉积炉底座，气相沉积炉壳顶部安装有橡胶圈，所述橡胶圈的内部开设有位于气相沉积炉壳内部的气相沉积炉内胆，本装置通过在沉积炉盖顶部安装真空泵，通过真空泵和连接管、抽风管、抽气蓬头等装置连接，使得炉内气场变的均匀，增加炉内气场的均匀性，从而达到了提高沉积效率的目的，本装置的沉积炉盖通过使用搭扣的方式进行固定，且沉积炉盖与气相沉积炉连接处设有橡胶圈，可防止气体流出，同时设有炉盖卡接槽，在安装使用方便的同时，也保证了装置的密封性。