[实用新型]一种原子层沉积设备有效
申请号: | 202023084484.2 | 申请日: | 2020-12-18 |
公开(公告)号: | CN213772206U | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 余浩;单伟;何胜;徐伟智;黄海燕;陆川 | 申请(专利权)人: | 海宁正泰新能源科技有限公司;浙江正泰太阳能科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/44;C23C16/40 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 王晓坤 |
地址: | 314415 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本申请公开了一种原子层沉积设备,包括工艺腔室、导轨、传送带,还包括位于所述工艺腔室中的静电除尘设备;所述静电除尘设备包括电源、与所述电源的第一电极相连的放电体、与所述电源的第二电极相连的集尘板。放电体与电源的第一电极相连,集尘板与电源的第二电极相连,接通后放电体周围空气被电离形成电离区,电离区中与第一电极极性相反的带电离子向放电体移动,与第一电极极性相同的带电离子向电离区外移动,使得石墨粉尘带电,在库仑力的作用下石墨粉尘向与第二电极相连的集尘板移动,沉积在集尘板上,定时清理集尘板即可,减少硅片表面石墨粉尘的聚集,改善EL黑点和黑斑问题,提升电池生产良率。 | ||
搜索关键词: | 一种 原子 沉积 设备 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的