[实用新型]真空蚀刻机

摘要

本实用新型公开了真空蚀刻机，包括箱体和旋转带动盘，所述箱体内壁中端设有旋转带动盘，所述旋转带动盘的内壁上下两端均固定连接有支撑架，所述旋转带动盘的内壁右侧固定连接有支撑架，所述旋转带动盘底段通过支撑架设有左位喷淋电极箱，所述旋转带动盘顶段通过支撑架设有右位喷淋电极箱，所述旋转带动盘右端通过支撑架设有电控吸附箱，所述电控吸附箱的左端底段固定连接有第一吸附口，所述电控吸附箱的左端顶段固定连接有第二吸附口，所述旋转带动盘内壁中端设有定位放置盘，涉及蚀刻机技术领域，通过可变动蚀刻相对所在方向缓解了蚀刻后板面上下表面均匀性不足的问题，通过底部独立吸附又集中排出缓解了吸附溶液时不够均匀有残留的问题。