[实用新型]一种曝光系统有效
| 申请号： | 202023213760.0 | 申请日： | 2020-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN214651920U | 公开（公告）日： | 2021-11-09 |
| 发明（设计）人： | 杨兵;吴良文;周本洋 | 申请（专利权）人： | 赤壁市万皇智能设备有限公司 |
| 主分类号： | B65G47/91 | 分类号： | B65G47/91;B65G61/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人： | 姜展志 |
| 地址： | 437300 湖北省咸宁市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种曝光系统，包括输送件、托盘取走件、第一工件取走件、托盘码垛件、定位机构、第二工件取走件和曝光设备，输送件用以由前向后输送装有工件的托盘，托盘码垛件设置在输送件出料端的一侧，第一工件取走件设置在输送件出料端的另一侧，定位机构设置在输送件的后方，曝光设备设置在定位机构的后方，托盘取走件设置在输送件的出料端处，第二工件取走件设置在定位机构与曝光设备之间的一侧，第一工件取走件将输送件出料端处的托盘上的工件取走至定位机构进行定位，托盘取走件用以将输送件出料端的托盘取走至置于托盘码垛件上进行码垛，第二工件取走件用以将定位机构上的工件取走至曝光设备进行曝光处理。其结构简单，加工效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 系统 | ||
【主权项】：
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