[实用新型]一种用于晶圆的清洗机构有效
| 申请号： | 202023304149.9 | 申请日： | 2020-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN214516376U | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 樊四虎;李强 | 申请（专利权）人： | 天健九方（西安）毫米波设计研究院有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B13/00;F26B21/00;B01D46/00;B01D46/12;B01D53/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 合肥东邦滋原专利代理事务所(普通合伙) 34155 | 代理人： | 张海燕 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市高新区*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种用于晶圆的清洗机构，包括：设备壳体，所述设备壳体内设有工作平台，工作平台将设备壳体分隔为设备腔和清洗腔，所述清洗腔内的工作平台上设有若干清洗槽，所述清洗槽通过清洗固定支架安装在设备壳体上，所述清洗腔后端的设备壳体上设有热风烘干装置，所述热风烘干装置通过管道连接于热风机，所述热风机与热风烘干装置之间设有气体过滤装置，所述热风烘干装置包括热风输送箱体，所述热风输送箱体上端设有热风输入管，所述热风输入管通过管道连接于热风机，本实用新型不仅可以实现对多组晶圆的同时清洗，而且，可以对清洗后的晶圆进行及时干燥，防止二次污染，保证晶圆洁净度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 清洗 机构 | ||
【主权项】：
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