[发明专利]垂直存储器件有效

专利信息
申请号: 202080001044.X 申请日: 2020-05-29
公开(公告)号: CN111758161B 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 张坤 申请(专利权)人: 长江存储科技有限责任公司
主分类号: H01L27/1157 分类号: H01L27/1157;H01L27/11573;H01L27/11575;H01L27/11582
代理公司: 北京永新同创知识产权代理有限公司 11376 代理人: 张殿慧;刘健
地址: 430223 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本公开内容的方面提供了一种半导体器件。半导体器件包括堆叠层。堆叠层包括设置在衬底上的公共源极层、栅极层和绝缘层。栅极层和绝缘层是交替地堆叠的。然后,半导体器件包括在阵列区域中形成的沟道结构的阵列。沟道结构延伸穿过堆叠层并形成串联配置的晶体管的堆叠。沟道结构包括与公共源极层相接触的沟道层。公共源极层在阵列区域和阶梯区域上方延伸。半导体器件包括在阶梯区域中设置的接触结构。接触结构形成与公共源极层的导电连接。
搜索关键词: 垂直 存储 器件
【主权项】:
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