[发明专利]用于在粉末颗粒形态的材料沉积薄膜层的化学气相沉积设备在审
申请号: | 202080002130.2 | 申请日: | 2020-06-26 |
公开(公告)号: | CN112703270A | 公开(公告)日: | 2021-04-23 |
发明(设计)人: | 秦洪秀 | 申请(专利权)人: | LIV能源株式会社 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人: | 金星 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 根据本发明的一实施例,提供在粉末颗粒形态的材料形成薄膜层的化学气相沉积设备。本发明的一实施例的化学气相沉积设备包括:反应管,装入材料以执行沉积;加热部,对反应管施加热;隔热部,位于反应管及加热部的外侧;气体供应管,向反应管内供应气体;气体排放管,向外部排放反应管内部的气体;其中,反应管构成为可旋转地配置在工作台上以在旋转的同时执行沉积;反应管可构成为具备在中心部具有扩张的容纳空间的腔室部,在腔室部装入材料以执行沉积。 | ||
搜索关键词: | 用于 粉末 颗粒 形态 材料 沉积 薄膜 化学 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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