[发明专利]曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法在审
| 申请号： | 202080011094.6 | 申请日： | 2020-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN113439236A | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 吉田亮平;井田真高;吉田大辅;野嶋琢己;松桥佑介;渡辺畅章 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 王蕊;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种曝光装置，其进行第一曝光与第二曝光，所述第一曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在第一时间内对被曝光基板上的第一曝光区域进行曝光，所述第二曝光一面使被曝光基板朝扫描方向移动，一面在与第一时间不同的第二时间内对被曝光基板上的第二曝光区域进行曝光，所述曝光装置包括：照明光学系统，供给照明光；投影光学系统；以及设定构件，在与扫描方向正交的非扫描方向上，以第一曝光区域及第二曝光区域各自的一部分重复的第二区域中的曝光量分布相对于所述第二区域的中心变成不对称的分布的方式进行设定。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 照明 光学系统 以及 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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