[发明专利]薄膜形成用金属卤化物的固体气化供给系统在审

专利信息
申请号: 202080013066.8 申请日: 2020-02-05
公开(公告)号: CN113366142A 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 斋笃;松本浩 申请(专利权)人: 株式会社高纯度化学研究所
主分类号: C23C16/448 分类号: C23C16/448;C23C16/34;C23C16/40;C25F3/16;H01L21/205;H01L21/31
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张泽洲;司昆明
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供能够降低颗粒污染的薄膜形成用金属卤化物的固体气化供给系统。具备用于将薄膜形成用金属卤化物存积且使其蒸发的蒸发原料用容器(100)、与蒸发原料用容器(100)连接的缓冲罐(101),蒸发原料用容器(100)具备具有容器壁的容器主体、盖体、紧固部件、接头部件,容器壁具有由内壁部件及外壁部件构成的二重壁构造,构成为将载气经由二重壁构造之间向容器主体内导入,容器壁由纯度99~99.9999%的铜、纯度99~99.9996%的铝、或纯度99~99.9999%的钛构成,在容器主体、盖体、紧固部件、及接头部件分别施加氟树脂涂层及/或电解研磨。
搜索关键词: 薄膜 形成 金属 卤化物 固体 气化 供给 系统
【主权项】:
暂无信息
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