[发明专利]蒸发原料用容器和使用该蒸发原料用容器的固体气化供给系统在审
| 申请号： | 202080013070.4 | 申请日： | 2020-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN113366143A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 斋笃;松本浩 | 申请（专利权）人： | 株式会社高纯度化学研究所 |
| 主分类号： | C23C16/448 | 分类号： | C23C16/448;C23C16/34;C23C16/40;C25F3/16;H01L21/205;H01L21/31 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张桂霞;杨思捷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供耐腐蚀性优异的蒸发原料用容器。用于贮存薄膜形成用金属卤化物(S)且使其蒸发的蒸发原料用容器(100)，具备：具有容器壁(12)的容器主体(2)、具有载气导入口(16)和混合气体导出口(18)的盖体(4)、固定容器主体(2)和盖体(4)的紧固构件(6)、以及接合构件(8)，容器主体(2)的容器壁(12)由纯度为99～99.9999%的铜、纯度为99～99.9999%的铝、或纯度为99～99.9999%的钛构成，对容器主体(2)、盖体(4)、紧固构件(6)、和接合构件(8)分别施行氟树脂涂层和/或电解抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸发 原料 容器 使用 固体 气化 供给 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
