[发明专利]用于光刻装置中的部件、保护部件的方法以及保护光刻装置中的台的方法在审
| 申请号： | 202080013231.X | 申请日： | 2020-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN113412452A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | M·A·范德凯克霍夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳;郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种保护光刻装置的部件的方法，该方法包括以下步骤：提供保护盖，该保护盖被成形为保护所述部件的至少一部分，该保护盖具有接触表面，该接触表面被布置为粘附到所述光刻装置或所述部件的至少一部分的第一表面；以及使保护盖接近部件，以便使得接触表面粘附到光刻装置或所述部件并且在不施加外力的情况下保持粘附。还提供了一种用于光刻装置中的图案形成装置以及光刻装置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 装置 中的 部件 保护 方法 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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