[发明专利]单片多I区二极管限制器在审

专利信息
申请号: 202080013799.1 申请日: 2020-02-12
公开(公告)号: CN113424317A 公开(公告)日: 2021-09-21
发明(设计)人: 詹姆士·约瑟夫·布罗格;约瑟夫·杰勒德·布科夫斯基;玛格丽特·玛丽·巴尔特;蒂莫西·爱德华·博莱斯 申请(专利权)人: 镁可微波技术有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H03G11/02;H01L27/08;H01L29/868
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王萍;高雪
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 描述了许多单片二极管限制器半导体结构。二极管限制器可以包括具有不同本征区的二极管的混合排列,所有二极管都形成在相同的半导体衬底上方。在一个示例中,二极管限制器半导体结构中的两个PIN二极管具有不同的本征区厚度。第一PIN二极管具有较薄的本征区,而第二PIN二极管具有较厚的本征区。这种配置允许单独优化薄本征区PIN二极管和厚本征区PIN二极管二者。薄本征区PIN二极管可以针对低电平导通和平坦泄漏进行优化,而厚本征区PIN二极管可以针对低电容、良好的隔离和高入射功率水平进行优化。这种配置不限于两级解决方案,因为额外的级可以用于更高的入射功率处理。
搜索关键词: 单片 二极管 限制器
【主权项】:
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