[发明专利]与纳米线尺寸相关的纳米线印墨表现在审
| 申请号： | 202080014122.X | 申请日： | 2020-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN113424273A | 公开（公告）日： | 2021-09-21 |
| 发明（设计）人： | 麦可·安德鲁·史佩德;傑夫·艾伦·沃克 | 申请（专利权）人： | 英属维京群岛商天材创新材料科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01B1/22 | 分类号： | H01B1/22;C09D11/52 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 王玉双;张燕华 |
| 地址： | 维尔京群岛*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于在制造透明导电膜之前预测从含有纳米线的印墨制得的透明导电膜的至少一种表现性质的方法。该方法包括从印墨取得纳米线母群以用于分析。该方法包括对来自印墨的母群内的所有纳米线测定长度与直径的至少一者。该方法包括比较所测定的长度与直径的至少一者与一数值指数，该数值指数是与待制造的透明导电膜的至少一种表现性质相关联。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 尺寸 相关 线印墨 表现 | ||
【主权项】：
暂无信息
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