[发明专利]曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法在审
| 申请号： | 202080014640.1 | 申请日： | 2020-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN113439239A | 公开（公告）日： | 2021-09-24 |
| 发明（设计）人： | 吉田亮平;井田真高;吉田大辅;野嶋琢己;松桥佑介;渡辺畅章 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 郑乐;臧建明 |
| 地址： | 日本东京港区港南二丁目1*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 曝光装置包括：照明光学系统，具有光学积分器；投影光学系统；基板载台，使被曝光基板相对于投影光学系统朝扫描方向进行相对移动；照度变更构件，配置为相对于光学积分器可相对移动，将对第二区域进行曝光的曝光量与对第一区域进行曝光的曝光量的一者相对于另一者相对地变更，第二区域是被曝光基板上的第一曝光区域及第二曝光区域的各区域的一部分重复的区域，第一区域是第一曝光区域的其他部分及第二曝光区域的其他部分的区域；以及控制部，以使第一区域中的曝光量相对于第二区域中的曝光量相对地变大的方式，使照度变更构件移动。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 照明 光学系统 以及 元件 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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