[发明专利]溅射靶及溅射靶的制造方法有效
| 申请号： | 202080016713.0 | 申请日： | 2020-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN113544308B | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | 和田优;斋藤胜仁;川越裕;武末健太郎;高桥一寿 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B35/01;H01L21/363 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 袁波;刘继富 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明实施例涉及抑制遮挡部件脱落。在溅射靶中，靶主体具有包围筒状衬管的外周面的圆筒状的多个靶部件，多个靶部件的分别以在衬管的中心轴方向上分离的方式排列设置，通过在中心轴方向排列多个靶部件而在相邻的靶部件之间形成的间隙环绕衬管的中心轴周围，在上述衬管侧形成有与间隙连通的凹部。接合材料设置在衬管与上述靶主体之间，将多个靶部件分别与衬管接合。遮挡部件配置在接合材料与靶主体之间，被容纳在凹部，从上述接合材料侧遮挡间隙。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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