[发明专利]平台系统和光刻装置在审
| 申请号： | 202080017486.3 | 申请日： | 2020-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN113490886A | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | M·J·詹森;F·奥尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种平台系统，包括相对于基准结构可移动的平台(ST)。平台和基准结构中的一个包括反射表面(REFS)。光学位置传感器(IF1)被布置在平台和基准结构中的另一个处，并且被配置成确定反射表面相对于光学位置传感器的位置。光学形状传感器(IF2)被配置成确定反射表面的形状。平台系统还包括位置测量控制器，位置测量控制器被配置成：从反射表面相对于光学位置传感器的位置以及从由光学形状传感器确定的反射表面的形状，导出平台的平台位置。 | ||
| 搜索关键词： | 平台 系统 光刻 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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