[发明专利]气化器的清洗方法及气化装置在审
| 申请号： | 202080017984.8 | 申请日： | 2020-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN113597412A | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 大谷浩辉;川崎光广;浅井稔之 | 申请（专利权）人： | 古河电气工业株式会社 |
| 主分类号： | C03B8/04 | 分类号： | C03B8/04 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 刘文海 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，提供一种即使产生原料的聚合物也能够简易除去的气化器的清洗方法及气化装置。气化器的清洗方法，使在常温常压下呈液体状的原料在气化器进行气化，使该气化后的原料在供给管路中向反应部供给，其中，所述气化器的清洗方法包括清洗工序，在该清洗工序中，使所述原料一边维持为液体状，一边在所述气化器流动而清洗所述气化器。也可以为，所述气化器的清洗方法还包含将所述原料与载气混合而生成混合流体的混合工序，在所述清洗工序中，一边使所述混合流体的所述原料维持为液体状，一边使所述混合流体在所述气化器流动而清洗所述气化器。 | ||
| 搜索关键词： | 气化 清洗 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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