[发明专利]氮化硅膜蚀刻组合物有效
| 申请号： | 202080018653.6 | 申请日： | 2020-02-10 |
| 公开（公告）号： | CN113518817B | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 李昇勋;李昇炫;金胜焕;陈昇吾 | 申请（专利权）人： | 荣昌化学制品株式会社 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06;C09K13/08 |
| 代理公司： | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人： | 郑青松 |
| 地址： | 韩国庆*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种氮化硅膜蚀刻组合物。所述蚀刻组合物由无机酸、环氧(Epoxy)系硅化合物及水组成，本发明的蚀刻组成物具有能够最小化下部金属膜质的损伤和氧化硅膜的蚀刻，并能够选择性地去除氮化硅膜的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 氮化 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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