[发明专利]计量方法和设备、计算机程序和光刻系统在审
| 申请号： | 202080020911.4 | 申请日： | 2020-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN113574458A | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | A·奥诺塞;R·德克斯;R·H·E·C·博施;S·S·A·M·雅各布斯;F·J·布杰恩斯特斯;S·T·德兹瓦特;A·帕尔哈·达·希尔瓦·克莱里戈;N·弗赫尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种用于计量的方法、计算机程序和相关设备。该方法包括确定重构方案，重构方案至少描述用于在描述目标的参数化的重构中使用的标称值。该方法包括获取与至少一个衬底上的多个目标的测量相关的第一测量数据，上述测量数据与一个或多个获取设置相关，并且通过使成本函数最小化来执行优化，成本函数用于基于上述多个目标中的每个目标的重构参数化来使第一测量数据与经仿真的测量数据之间的差异最小化。成本函数上的约束基于分层先验而被施加。还公开了一种用于提供用于重构的仿真数据的混合模型，包括获取可操作以提供仿真粗略数据的粗略模型；以及训练数据驱动模型以校正上述仿真粗略数据以确定上述仿真数据。 | ||
| 搜索关键词： | 计量 方法 设备 计算机 程序 光刻 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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